在电子化设备普及的今天,纯水在电子工业中的作用也越来越明显了,那么在工业研究中,纯水究竟有哪些作用呢?纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
渗源纯水机可以同时生产纯水和超纯水,能够满足不同的实验用水需求,特别适合科研实验室复杂的用水环境,渗源纯水机制取的RO水可以用来做实验清洗用,UP水为超纯水,其电阻可以达到18.25MΩ.cm,能够满足大部分实验需求的去离子水。
实验室超纯水机设备性能:
1.全自动控制功能,搭配智能真彩屏幕LCD液晶显示器,能随时查看电导率、电阻值等诸多参数信息;
2.配备有专用排水口,避免液位传感器出现破损时,水箱溢水对实验室造成不良影响;
3.可设置PIN操作密码;
4.带有紫外消解装置,增强纯水机出水水质的稳定性;
5.进口树脂产品,能够延长纯化组件的寿命,降低运营成本;
6.进口RO美国陶氏反渗透膜,能有效的去除水中高价离子、胶体、细菌、真菌等物质;
在电子化设备普及的今天,纯水在电子工业中的作用也越来越明显了,那么在工业研究中,纯水究竟有哪些作用呢?纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
渗源纯水机可以同时生产纯水和超纯水,能够满足不同的实验用水需求,特别适合科研实验室复杂的用水环境,渗源纯水机制取的RO水可以用来做实验清洗用,UP水为超纯水,其电阻可以达到18.25MΩ.cm,能够满足大部分实验需求的去离子水。
实验室超纯水机设备性能:
1.全自动控制功能,搭配智能真彩屏幕LCD液晶显示器,能随时查看电导率、电阻值等诸多参数信息;
2.配备有专用排水口,避免液位传感器出现破损时,水箱溢水对实验室造成不良影响;
3.可设置PIN操作密码;
4.带有紫外消解装置,增强纯水机出水水质的稳定性;
5.进口树脂产品,能够延长纯化组件的寿命,降低运营成本;
6.进口RO美国陶氏反渗透膜,能有效的去除水中高价离子、胶体、细菌、真菌等物质;
手机站